Роснанотех не поспевает за прогрессом

На модерации Отложенный

Генеральный директор «Российской корпорации нанотехнологий» (РОСНАНО) Анатолий Чубайс и председатель совета директоров АФК «Система» Владимир Евтушенков подписали инвестиционный договор по созданию в России серийного производства интегральных схем на основе технологии с проектными нормами 90 нм на пластинах диаметром 200 мм.

Проект будет реализован на производственной базе с использованием инфраструктуры завода «Микрон» (входит в состав компании «Ситроникс», крупнейшим акционером которой является АФК «Система»), а технологическим партнером выступит STMicroelectronics.

Инициатива предполагает формирование комплексной системы, включающей в себя дизайн-центры, научно-исследовательские организации и компании, занимающиеся материаловедением микроэлектроники.

Инвестиции осуществляются в форме взносов в уставный капитал создаваемого совместного предприятия, соучредителями которого на паритетных началах выступят РОСНАНО и ОАО «НИИМЭ и Микрон».



Общий объем финансирования составит 16,5 млрд рублей. В соответствии с соглашением, РОСНАНО предоставит 6,5 млрд руб, а «Ситроникс» вложит равную долю в виде высокотехнологичного оборудования. В будущем предусматривается также заемное финансирование.

Предполагается, что продукция нового предприятия заинтересует производителей цифровой ТВ-техники, навигационных устройств, автомобильной электроники, смарт-карт с высокой степенью защиты, систем автоматизации производства и т. п.

Напомним, что компании AMD и Intel выпускают сегодня чипы по 45-нанометровой методике. В ближайшее время запланировано внедрение 32-нанометрового техпроцесса.